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  • 2018-11-08

    未來ITO靶材發展趨勢

        1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細化發展的趨向,以及它的驅動程序不同,需要更小電阻率的透明導電膜。  2.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現在減少黑化和降低電阻率...

  • 2018-11-08

    靶材的主要性能要求介紹

          純度:純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6”, 8“...

  • 2018-11-08

    靶材濺射完后半邊中毒發烏問題分析

        原因分析1:可能與射頻電源的引入有關  原因分析2:這么小的靶,兩英寸?冷卻均勻么  原因分析3:這么小的靶還加300W的功率,冷卻跟得上嗎?懷疑是冷卻不好,造成半邊發烏!  原因分析4:冷...

  • 2018-11-08

    濺射靶材射頻的頻率提高后

        在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加...

  • 2018-11-08

    真空鍍膜和光學鍍膜區別

          靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運...

  • 2018-11-08

    離子鍍裝飾發朦缺陷現象與成因及對策淺析

    1 前 言離子鍍裝飾膜鍍膜生產經常出現表面“發朦”的缺陷,在白光下目視鍍層局部表面出現一層淺白色云霧狀物。“朦白”現象在鍍銀白色膜、黑色膜、金色膜時都會出現。鍍TiC、CrC 黑膜會出現,甚至用...

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