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  • 2018-11-08

    光學鍍膜材料包括那些內容

    光學鍍膜,影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會造成入射光的漫射,降低鏡片的透光率。此外材質的吸旋光性,也會造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴重。例如會吸收紅色光的材...

  • 2018-11-08

    磁控濺射靶材的種類介紹

          濺射靶材:金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射...

  • 2018-11-08

    濺射靶材磁控濺射原理

          在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場...

  • 2018-11-08

    合金靶材濺射靶材使用指南及注意事項

          保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物,直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或...

  • 2018-11-08

    磁控濺射靶材的運作過程

          磁控濺射的特點是成膜速率高,基片溫度低,膜的粘附性好,可實現大面積鍍膜。該技術可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法。  磁控濺射是70年代迅速發展起來的一種“高速低...

  • 2018-11-08

    靶材在真空電鍍中的用途

    提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速...

  • 2018-11-08

    磁控濺射靶材的種類介紹

         磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,除可濺射導電材料外,也可濺射非導電的材料,濺射靶材...

  • 2018-11-08

    講解濺射靶材中頻磁控濺射的知識

      中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設計而定,與整個系統濺射過程中,陽極陰極的安排有關,參與的比率周期有很...

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