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  • 2018-11-08

    磁控濺射靶材的種類介紹

         磁控濺射一般分為二種:直流濺射和射頻濺射,其中直流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛,除可濺射導電材料外,也可濺射非導電的材料,濺射靶材...

  • 2018-11-08

    講解濺射靶材中頻磁控濺射的知識

      中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設計而定,與整個系統濺射過程中,陽極陰極的安排有關,參與的比率周期有很...

  • 2018-11-08

    磁控濺射靶材行業的發展規律

           磁控濺射設備一般根據所采用的電源的不同又可分為直流濺射和射頻濺射兩種。直流磁控濺射的特點是在陽極基片和陰極靶之間加一個直流電壓,陽離子在電場的作用下轟擊靶...

  • 2018-11-08

    濺射靶材的應用領域

          信息存儲產業:隨著IT 產業的不斷發展,世界對記錄介質的需 求量越來越大,記錄介質用靶材研究與生產成為一大熱點。在信息存儲產業中,使用濺射靶材制備的 相關薄膜產品有硬盤...

  • 2018-11-08

    濺射靶材磁控濺射原理

          在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場...

  • 2018-11-08

    我國ITO靶材行業的發展情況

         ITO靶材的生產工藝可以分為3種:熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下。  熱等靜壓法:ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先...

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