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我國ITO靶材行業的發展情況
瀏覽量:252 上傳更新:2018-11-08

     ITO靶材的生產工藝可以分為3種:熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下。

  熱等靜壓法:ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好,但設備投入高,生產成本高,產品的缺氧率高。

  熱壓法:ITO靶材的熱壓制作過程是在濺射靶材石墨或氧化鋁制的模具內充填入適當粉末以后,以 100kgf/cm 2~1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓,同時以1000℃~1600℃進行燒結。熱壓工藝制作過程所需的成型壓力較小,燒結溫度較低,燒結時間較短。但熱壓法生產的ITO靶材由于缺氧率高,氧含量分布不均勻,從而影響了生產ITO薄膜的均勻性,且不能生產大尺寸的靶。

  燒結法:ITO靶材燒結制作法是在以銦錫氧化物共沉淀粉末或氧化銦和氧化錫混合粉末為原料,濺射靶材加入黏結劑和分散劑混合后,壓力成型,脫脂,然后于1400℃~1600℃燒結。

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