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講解濺射靶材中頻磁控濺射的知識
瀏覽量:275 上傳更新:2018-11-08

  中頻濺射的原理跟一般的直流濺射是相同的,不同的是直流濺射把筒體當陽極,而中頻濺射是成對的,筒體是否參加必須視整體設計而定,與整個系統濺射過程中,陽極陰極的安排有關,參與的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的濺射產額,得到不相同的離子密度。

  中頻濺射主要技術在于電源的設計與應用,目前較成熟的是正弦波與脈沖方波二種方式輸出,各有其優缺點,首先應考慮膜層種類,分析哪種電源輸出方式適合哪種膜層,可以用電源特性來得到想要的膜層效果。

  中頻的靶材用的對靶,濺射靶材有的用到三對.靶都是比較大,就中頻而言,現在用的多的都是鍍一些金屬的工件.這樣的真空爐一般都做的比較大,可以放下很多任務件,鍍出來的膜層也更加的致密.

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